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真空鍍膜設(shè)備真空技術(shù)與電真空工業(yè)有非常緊密的聯(lián)系，電真空器件就是其內(nèi)部為“真空”的電子器件。電光源是電真空器件的一個(gè)分支，它與真空技術(shù)有著特別緊密的聯(lián)系，表現(xiàn)在，幾乎所有的電光源產(chǎn)品在制造過程中都不可缺少“排氣”這一重要工序，而整個(gè)排氣過程涉及到真空技術(shù)的所有基本環(huán)節(jié)；此外，光源內(nèi)部的真空必須長(zhǎng)久保持，光源才能有穩(wěn)定的特性和足夠的壽命。真空手套箱電光源生產(chǎn)對(duì)真空技術(shù)的要求主要在于：將燈內(nèi)部的氣體抽走并長(zhǎng)期保持這種狀態(tài)。真空鍍膜機(jī)真空技術(shù)在很大程度上決定著燈的性能、壽命。這對(duì)于霓虹燈也不例外，在霓虹燈的制造中，真空鍍膜設(shè)備真空技術(shù)是決定霓虹燈質(zhì)量的關(guān)鍵因素之一。因此，對(duì)于霓虹燈制造來說，了解真空...

雖然塑料可以在很多場(chǎng)合代替金屬， 但顯而易見缺乏金屬的質(zhì)感， 為此，需要采用一定的方法，在塑料表面鍍上一層金屬（鋁，鋅，銅，銀，金，鉻等），一種方法是采用類似化學(xué)鍍和電鍍的方法，另一種方法是在塑料表面進(jìn)行真空噴鍍金屬 -----即在真空狀態(tài)下，將金屬融化后，以分子或原子形態(tài)沉積在塑料表面形成 5-10um 的金屬膜。真空噴鍍金屬需要與塑料表面底漆之間良好的配合， 底漆的厚度通常為 10-20um。主要作用是防止塑料中水、 有機(jī)溶劑、 增塑劑等排出影響金屬附著。要涂層硬度高、 底漆具有可以修復(fù)塑料缺陷，提供一個(gè)光滑、平整的平面以利于真空鍍的性能， 并與塑料底材和所鍍金屬附著牢固。通常選用雙組份常...

真空鍍膜涂料。由于底漆位于基材和鍍膜的中間，其性能應(yīng)當(dāng)滿足基材和真空鍍層兩方面的要求，具體包括以下幾個(gè)方面：（1）與塑料基材、真空鍍層均有較好的粘附性，這是作為真空鍍膜底漆應(yīng)具備的Z基本性能;（2）應(yīng)具有良好的流平性，這是決定真空鍍層是否具有高光澤和鏡面效果的關(guān)鍵;（3）不應(yīng)含有揮發(fā)性小分子，主要是指殘留單體、揮發(fā)性添加劑、揮發(fā)性雜質(zhì)和高沸點(diǎn)溶劑等，其在真空升溫環(huán)境下會(huì)逐漸逸出，從多方面破壞鍍膜質(zhì)量和性能;（4）應(yīng)具有一定的耐熱性，其熱膨脹性要和真空鍍層的熱脹冷縮性能相適應(yīng)，抗熱形變和熱分解性能應(yīng)滿足真空鍍膜工藝的要求;（5）對(duì)于柔性基材，底涂應(yīng)具有足夠的柔韌性，否則易造成鍍層連帶開裂，甚至崩...

按使用的原材料材質(zhì)不同，濺射靶材可分為金屬/非金屬單質(zhì)靶材、合金靶材、化合物靶材等。濺射鍍膜工藝可重復(fù)性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結(jié)合力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，已成為制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，各種類型的濺射薄膜材料已得到普遍的應(yīng)用，因此，對(duì)濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，濺射靶材亦已成為目前市場(chǎng)應(yīng)用量非常大的 PVD 鍍膜材料。高純金屬及濺射靶材是電子材料的重要組成部分，濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應(yīng)用等環(huán)節(jié)，其中，靶材制造和濺射鍍膜環(huán)節(jié)是整個(gè)濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈中的重要環(huán)節(jié)。真空鍍膜加工產(chǎn)品...

UV真空鍍膜產(chǎn)品的特性.UV真空鍍膜系列產(chǎn)品是我公司將光固化涂料應(yīng)用于真空鍍膜技術(shù)中的成功實(shí)踐，適用于ABS、AS、PS、PC、PET、PA、PP、BMC等塑料表面的真空鍍膜工藝，經(jīng)過噴涂方法涂裝，UV快速固化，操作簡(jiǎn)單、施工方便。具有對(duì)基材及鍍膜層附著好、干燥快、耐化學(xué)性能好等特性。底面涂配套成型后，表面硬度高、耐磨性能佳、平整光滑、金屬質(zhì)感好，普遍應(yīng)用于化妝品、手機(jī)、數(shù)碼相機(jī)、電腦、電視機(jī)、汽車零配件及光電產(chǎn)業(yè)等外殼、按鍵及其它電子裝飾件表面的真空鍍膜工藝。UV真空鍍膜產(chǎn)品的優(yōu)異性低溫紫外光固化，對(duì)基材損傷小固化速度快，適合流水線生產(chǎn)、鍍膜美觀、綜合性能優(yōu)異減少環(huán)境及空氣污染，節(jié)約能源不含...

PVD鍍膜與傳統(tǒng)化學(xué)電鍍（水電鍍）的異同。PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍的相同點(diǎn)是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點(diǎn)是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結(jié)合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩(wěn)定；PVD鍍膜不會(huì)產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。PVD鍍膜技術(shù)目前主要應(yīng)用的行業(yè)。PVD鍍膜技術(shù)的應(yīng)用主要分為兩大類：裝飾鍍膜和工具鍍膜。裝飾鍍的目的主要是為了改善工件的外觀裝飾性能和色澤同時(shí)使工件更耐磨耐腐蝕延長(zhǎng)其使用壽命；這方面主要應(yīng)用五金行業(yè)的各個(gè)領(lǐng)域，如門窗五金、鎖具、衛(wèi)浴五金等行業(yè)。工具鍍的目的主要是為了提高工件的表面硬度和耐磨...

為什么真空鍍膜可以做成不同的顏色，還有七彩色？因?yàn)樵谡婵照翦兺曛筮€要噴一層UV光油面漆，這層面漆上可以做不同的顏色。蒸鍍通過鍍一些硅化物可以做成七彩色，但比較薄，近看可以，遠(yuǎn)看不明顯，；濺射通過CSi、CO、Si等物質(zhì)進(jìn)行反應(yīng)鍍可鍍出七彩色，或者通過低溫多層不同顏色的鍍膜來呈現(xiàn)多彩。而水電鍍的一般為金屬本色，要呈現(xiàn)其他顏色的需要涂UV面漆然后UV照射。為什么真空鍍膜的鍍鋁不導(dǎo)電？因?yàn)殄兡た偣灿腥龑?，外層的UV光油經(jīng)UV照射后起到固化耐磨絕緣的作用，但是一旦這層膜被破壞就導(dǎo)電了。真空鍍膜怎么鍍綠色？四川五金鋁材真空鍍膜機(jī)蒸鍍材料主要工藝流程包括混料，原料預(yù)處理，成型，燒結(jié)和檢測(cè)等。將配制好的原...

真空鍍膜的工藝流程大致可分為以下幾步：1、表面處理：通常,鍍膜之前,應(yīng)對(duì)基材（鍍件）進(jìn)行除油、除塵等預(yù)處理,以保證鍍件的整潔、干燥,避免底涂層出現(xiàn)麻點(diǎn)、附著力差等缺點(diǎn)。對(duì)于特殊材料,如PE（聚乙烯）料等,還應(yīng)對(duì)其進(jìn)行改性,以達(dá)到鍍膜的預(yù)期效果。2、底涂：底涂施工時(shí),可以采用噴涂,也可采用浸涂,具體應(yīng)視鍍件大小、形狀、結(jié)構(gòu)及用戶設(shè)備等具體情況及客戶的質(zhì)量要求而定。采用噴涂方法,可采用SZ-97T鍍膜油；采用浸涂方法,可采用SZ-97、SZ-97+1等油,具體應(yīng)視鍍件材料而定。3、底涂烘干：SZ-97鍍膜油系列均為自干型漆，烘干的目的是為了提高生產(chǎn)效率。通常烘干的溫度為60-70oC,時(shí)間約2小時(shí)...

為什么真空鍍膜可以做成不同的顏色，還有七彩色？因?yàn)樵谡婵照翦兺曛筮€要噴一層UV光油面漆，這層面漆上可以做不同的顏色。蒸鍍通過鍍一些硅化物可以做成七彩色，但比較薄，近看可以，遠(yuǎn)看不明顯，；濺射通過CSi、CO、Si等物質(zhì)進(jìn)行反應(yīng)鍍可鍍出七彩色，或者通過低溫多層不同顏色的鍍膜來呈現(xiàn)多彩。而水電鍍的一般為金屬本色，要呈現(xiàn)其他顏色的需要涂UV面漆然后UV照射。為什么真空鍍膜的鍍鋁不導(dǎo)電？因?yàn)殄兡た偣灿腥龑?，外層的UV光油經(jīng)UV照射后起到固化耐磨絕緣的作用，但是一旦這層膜被破壞就導(dǎo)電了。真空鍍膜機(jī)工作原理及結(jié)構(gòu)介紹。上海五金鋁材真空鍍膜流程PVD鍍膜技術(shù)的原理：PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)，其具體原理是...

離子真空鍍膜技術(shù)的特點(diǎn)和用途：真空離子鍍鈦應(yīng)用的就是PVD技術(shù)。金屬在特定環(huán)境下(壓力，溫度，電磁場(chǎng)等)與各種氣體(氬氣，氮?dú)猓鯕饧耙胰矚獾?產(chǎn)生綜合作用形成等離子體，經(jīng)過加速后，等離子體涌向被鍍工件表面，形成牢固的膜層。該鍍鈦膜層細(xì)密均勻，結(jié)合力強(qiáng)，硬度高，防腐耐磨，具有良好的導(dǎo)電性和自潤(rùn)滑性能，同時(shí)色澤豐富多樣，因此真空鍍鈦不僅是提高材料使用性能的有力手段，在裝飾上同樣是提升檔次，提高附加值的比較好選擇。刀具涂層前涂層后的比較，根據(jù)刀具制造企業(yè)對(duì)金屬切削原理研究，在正常切削時(shí)，刀具的磨損主要包括以下幾種：后刀面磨損；前刀面磨損，即月牙洼磨損；前后刀面同時(shí)磨損。刀具涂層前涂層后的比較根據(jù)刀...

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面, 它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ), 利用物理或化學(xué)方法, 并吸收電子束, 分子束, 離子束, 等離子束, 射頻和磁控等一系列新技術(shù), 為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說, 在真空中把金屬, 合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射, 使其在被涂覆的物體( 稱基板, 基片）上凝固并沉積的方法, 稱為真空鍍膜.真空鍍膜幾乎可以在任何基材上成膜，所以它的應(yīng)用范圍非常廣闊，采用工具鍍工藝可以使發(fā)動(dòng)機(jī)、機(jī)械模具、鉆頭刀具等更加耐用。裝飾電鍍工藝由于較低的生產(chǎn)成本和環(huán)保的技術(shù)工藝，被大量應(yīng)用于家居用品、五金廚房制品等日常用品之中，市場(chǎng)前景非常廣闊。真空鍍膜是不采用溶液或...

真空鍍膜和陽(yáng)極氧化是目前兩種常用的表面處理方法。真空鍍膜法在手機(jī)消費(fèi)電子的表面處理中，物li氣相沉積（PVD）是*主要的真空鍍膜方法。其原理為：在真空條件下，將金屬氣化成原子或分子，或者使其離子化成離子，直接沉積到工件表面，形成涂層，其沉積粒子束來源于非化學(xué)因素，如蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍等。真空不導(dǎo)電電鍍，稱NCVM，是一種真空電鍍的高新技術(shù)。也是目前塑膠件外殼普遍采用的物理法表面處理工藝之一。采用新的鍍膜技術(shù)、新的材料，做出普通真空電鍍的不同顏色的金屬外觀效果，起到美化工件表面之功用。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射，結(jié)合差工效低光澤差。廣西玻璃真空鍍膜加工廠真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料...

真空鍍膜的工藝流程5、面涂：通常面涂的目的有以下兩個(gè)方面：A、提高鍍件的耐水性、耐腐蝕性、耐磨耗性；B、為水染著色提供可能。SZ-97油系列產(chǎn)品均可用于面涂，若鍍件不需著色,視客戶要求,可選用911、911-1啞光油、889透明油、910啞光油等面油涂裝。6、面涂烘干：通常面涂層較底涂層薄,故烘干溫度較低,約50-60oC,時(shí)間約1~2小時(shí),用戶可根據(jù)實(shí)際情況靈活把握，終應(yīng)保證面涂層徹底干燥。如果鍍件不需著色,則工序進(jìn)行到此已經(jīng)結(jié)束。7、水染著色：如果鍍件需要進(jìn)行水染著色,則可將面漆已經(jīng)烘干的鍍件放進(jìn)染缸里,染上所需顏色,之后沖洗晾干即可。染色時(shí)要注意控制水的溫度,通常在60~80oC左右,同...

眾所周知，在某些材料的表面上，只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學(xué)性能。20世紀(jì)70年代，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個(gè)電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導(dǎo)體，而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學(xué)還原法，必須把膜材配制成溶液，并能迅速參加還原反應(yīng)，這種鍍膜方法不僅薄膜的結(jié)合強(qiáng)度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時(shí)還會(huì)產(chǎn)生大量的廢液，造成嚴(yán)重的污染。因此，這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。真空鍍膜則是相對(duì)于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來的一種新型鍍膜技術(shù)，通常稱...

PVD鍍膜技術(shù)的原理：PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。PVD鍍膜膜層的特點(diǎn)：采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)，膜層的壽命更長(zhǎng)；同時(shí)膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類：PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級(jí)鍍層且無(wú)污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和...

為什么真空鍍膜可以做成半透效果而且不導(dǎo)電？并非完全不導(dǎo)電，利用了分子在薄膜狀態(tài)下的不連續(xù)性，金屬或金屬化合物都具有導(dǎo)電性，只是導(dǎo)電率不同。但是，當(dāng)金屬或金屬化合物呈一種薄膜的狀態(tài)時(shí)，其相應(yīng)的物理特性會(huì)有所不同。常規(guī)的鍍膜材料中，如：銀是銀白效果和導(dǎo)電性能比較好的金屬，但它厚度在5納米以下時(shí)，它是不導(dǎo)電的；鋁的銀白效果和導(dǎo)電性比銀稍微差一些，但它厚度在0.9納米時(shí)，就已經(jīng)具備導(dǎo)電性。為什么會(huì)這樣呢？那是因?yàn)殂y分子的連續(xù)性沒有鋁的好，所以在相對(duì)膜厚下，它的導(dǎo)電性反而較差。我們真空鍍金屬不導(dǎo)電膜其實(shí)就是利用了某些金屬的分子連續(xù)性差的原理，把它厚度控制在某個(gè)范圍，使其具備銀白色外觀并且電阻超大。由此可...

真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較，具有下列優(yōu)點(diǎn)：(1)薄膜和基體選材廣，薄膜厚度可進(jìn)行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結(jié)合強(qiáng)度好，薄膜牢固。(4)干式鍍膜既不產(chǎn)生廢液，也無(wú)環(huán)境污染。真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較，具有下列優(yōu)點(diǎn)。真空鍍膜設(shè)備使用注意事項(xiàng)。浙江UV真空鍍膜設(shè)備按使用的原材料材質(zhì)不同，濺射靶材可分為金屬/非金屬單質(zhì)靶材、合金靶材、化合物靶材等。濺射鍍膜工藝可重復(fù)性好...

在真空鍍膜前要在塑料基材表面進(jìn)行UV涂裝的主要目的有以下幾點(diǎn):一，通過UV涂層來封閉基材，防止真空鍍膜時(shí)或工件使用時(shí)基材中的揮發(fā)性雜質(zhì)逸出，影響鍍膜質(zhì)量。像在車燈反射罩應(yīng)用時(shí)，由于在使用過程中溫度會(huì)升到100℃以上，基材中如有揮發(fā)性雜質(zhì)釋放會(huì)使鍍鋁層發(fā)彩、變色、影響反射效果。二，提高基材表面平整度，確保獲得鏡面的鍍膜效果。一般來說塑料表面本身具有0.51nn左右的粗糙度，真空鍍膜的厚度不超過0.2μm，無(wú)法填平基材表面的凹凸不平，得不到理想的鏡面效果，UV涂層厚度達(dá)到10-20μm，表面平整度在0.1μm以下，可填平基材缺陷并得到理想的鍍膜效果。三，獲得更厚的真空電鍍層.用底漆過渡,有利于獲得...

真空鍍膜即真空電鍍,就是將塑膠，薄膜等制品置于高真空爐內(nèi)。對(duì)鋁，錫，銦等金屬加熱，使之蒸發(fā)形成金屬氣體，金屬氣體在高真空條件下自由散發(fā)，冷卻后附著于被蒸鍍物表面上，形成金屬薄膜。 真空鍍膜為什么要噴底漆和面漆?真空鍍膜前噴底漆能增加金屬層和塑材之間的附著度，使塑材表面平坦光滑。電鍍后光澤度好。-真空鍍膜后噴面漆起保護(hù)鍍層，防止氧化，污染。增強(qiáng)表面耐磨。耐刮性能。通過增加染料等物質(zhì)達(dá)到表面美觀多樣化的目的。-真空不導(dǎo)電電鍍和普通真空電鍍有何區(qū)別?真空不導(dǎo)電電鍍，又稱NCVM。普通真空電鍍習(xí)慣稱PVD。真空不導(dǎo)電電鍍的加工工藝緣于普通真空電鍍，卻比其制程復(fù)雜的多，主要區(qū)別是其電鍍區(qū)域不導(dǎo)電，從而不...

真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀(jì)30年代，四五十年代開始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用，工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開始于20世紀(jì)80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業(yè)中取得普遍的應(yīng)用。真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料)，屬于PVD工藝。因?yàn)殄儗映榻饘俦∧?，故也稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。在所有被鍍材料中，以塑料頗為常見，其次，為紙張鍍膜。相對(duì)于金屬、陶瓷、木材等材料，塑料具有來源充足、性能易于調(diào)控、加工方便等優(yōu)勢(shì)，因此種類繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結(jié)構(gòu)材料，大量應(yīng)用于汽車、家電、...

真空離子鍍膜的定義：在真空條件下，利用氣體放電使氣體或蒸發(fā)物質(zhì)離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時(shí)，把蒸發(fā)物或其反應(yīng)物蒸鍍?cè)诨稀ｋx子鍍把輝光放電、等離子體技術(shù)與真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)結(jié)合在一起。真空離子鍍膜的原理：真空離子鍍膜是真空蒸發(fā)和真空濺射鍍膜結(jié)合的一種鍍膜技術(shù)。離子鍍的過程是在真空條件下,利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)(膜材)部分離化,在工作氣體離子或者被蒸發(fā)物質(zhì)的離子轟擊作用下,把蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物沉積在被鍍基片表面的過程。真空離子鍍膜的特點(diǎn)：鍍層附著性號(hào)，膜層不易脫落繞鍍性好，改善了表面的覆蓋度鍍層質(zhì)量好沉積速率高，成膜速度快鍍膜所適用的基體材料與膜材范圍廣。真空鍍膜的...

真空鍍膜過程。簡(jiǎn)單來說就是電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。但在實(shí)際輝光放電直流濺射系統(tǒng)中，自持放電很難在低于1.3Pa的條件下維持，這是因?yàn)樵谶@種條件下沒有足夠的離化碰撞。因此在低于1.3～2.7Pa壓強(qiáng)下運(yùn)行的濺射系統(tǒng)提高離化碰撞就顯得尤為重要。提高離化碰撞的方法要么靠額外的電子源來提供，而不是靠陰極發(fā)射出來的二次電子;要么就是利用高頻放電裝置或者施加磁場(chǎng)的方式提高已有電子的離化效率。事實(shí)上，真空鍍膜中二次電子在加速飛向基片的過程中...

UV真空鍍膜產(chǎn)品的特性.UV真空鍍膜系列產(chǎn)品是我公司將光固化涂料應(yīng)用于真空鍍膜技術(shù)中的成功實(shí)踐，適用于ABS、AS、PS、PC、PET、PA、PP、BMC等塑料表面的真空鍍膜工藝，經(jīng)過噴涂方法涂裝，UV快速固化，操作簡(jiǎn)單、施工方便。具有對(duì)基材及鍍膜層附著好、干燥快、耐化學(xué)性能好等特性。底面涂配套成型后，表面硬度高、耐磨性能佳、平整光滑、金屬質(zhì)感好，普遍應(yīng)用于化妝品、手機(jī)、數(shù)碼相機(jī)、電腦、電視機(jī)、汽車零配件及光電產(chǎn)業(yè)等外殼、按鍵及其它電子裝飾件表面的真空鍍膜工藝。UV真空鍍膜產(chǎn)品的優(yōu)異性低溫紫外光固化，對(duì)基材損傷小固化速度快，適合流水線生產(chǎn)、鍍膜美觀、綜合性能優(yōu)異減少環(huán)境及空氣污染，節(jié)約能源不含...

UV光固化真空鍍膜涂料介紹.UV光固化涂料工業(yè)產(chǎn)品表面涂裝工藝一直期望開發(fā)低污染、高速高效的成膜方法，紫外光固化技術(shù)革新在涂料中的成功應(yīng)用，誕生了紫外光固化涂料產(chǎn)品，它具有許多傳統(tǒng)涂料無(wú)法比擬的優(yōu)點(diǎn)：成膜速度極快，能量利用率高；施工綜合成本低；涂膜質(zhì)量?jī)?yōu)異；污染小，符合生態(tài)環(huán)保要求；適用熱敏基材（如塑料、木材等），應(yīng)用范圍廣，是新一代綠色環(huán)保涂料產(chǎn)品。UV真空鍍膜工藝技術(shù)真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣體的形式沉積到基材（通常是非金屬材料）表面，因?yàn)殄儗映榻饘俦∧?，故也稱真空金屬化，又稱真空鍍膜（主要是取代污染嚴(yán)重的傳統(tǒng)水電鍍工藝）。什么叫UV真空鍍膜？讓潤(rùn)溢為您解答。佛...

真空鍍膜設(shè)備真空技術(shù)與電真空工業(yè)有非常緊密的聯(lián)系，電真空器件就是其內(nèi)部為“真空”的電子器件。電光源是電真空器件的一個(gè)分支，它與真空技術(shù)有著特別緊密的聯(lián)系，表現(xiàn)在，幾乎所有的電光源產(chǎn)品在制造過程中都不可缺少“排氣”這一重要工序，而整個(gè)排氣過程涉及到真空技術(shù)的所有基本環(huán)節(jié)；此外，光源內(nèi)部的真空必須長(zhǎng)久保持，光源才能有穩(wěn)定的特性和足夠的壽命。真空手套箱電光源生產(chǎn)對(duì)真空技術(shù)的要求主要在于：將燈內(nèi)部的氣體抽走并長(zhǎng)期保持這種狀態(tài)。真空鍍膜機(jī)真空技術(shù)在很大程度上決定著燈的性能、壽命。這對(duì)于霓虹燈也不例外，在霓虹燈的制造中，真空鍍膜設(shè)備真空技術(shù)是決定霓虹燈質(zhì)量的關(guān)鍵因素之一。因此，對(duì)于霓虹燈制造來說，了解真空...

真空鍍膜技術(shù)的特點(diǎn)：1、鍍覆材料廣：可作為真空鍍蒸發(fā)材料有幾十種，包括金屬、合金和非金屬。真空鍍膜加工還可以像多層電鍍一樣，加工出多層結(jié)構(gòu)的復(fù)合膜，滿足對(duì)涂層各種不同性能的需求。2、真空鍍膜技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)不能通過電沉積方法形成鍍層的涂覆：如鋁、鈦、鋯等鍍層，甚至陶瓷和金剛石涂層，這是十分難能可貴的。3、真空鍍膜性能優(yōu)良：真空鍍膜厚度遠(yuǎn)小于電鍍層，但涂層的耐摩擦和耐腐蝕性能良好，孔隙率低，而且無(wú)氫脆現(xiàn)象，相對(duì)電鍍加工而言可以節(jié)約大量金屬材料。4、環(huán)境效益優(yōu)異：真空鍍膜加工設(shè)備簡(jiǎn)單、占地面積小、生產(chǎn)環(huán)境優(yōu)雅潔凈，無(wú)污水排放，不會(huì)對(duì)環(huán)境和操作者造成危害。在注重環(huán)境保護(hù)和大力推行清潔生產(chǎn)的形勢(shì)下，真空鍍...

真空鍍膜化學(xué)氣相沉積是一種化學(xué)生長(zhǎng)方法，簡(jiǎn)稱CVD(ChemicalVaporDeposition)技術(shù)。這種方法是把含有構(gòu)成薄膜元素的一種或幾種化合物的單質(zhì)氣體供給基片，利用加熱、等離子體、紫外光乃至激光等能源，借助氣相作用或在基片表面的化學(xué)反應(yīng)(熱分解或化學(xué)合成)生成要求的薄膜。真空鍍鈦的CVD法中Z常用的就是等離子體化學(xué)氣相沉積(PCVD)。利用低溫等離子體作能量源，樣品置于低氣壓下輝光放電的陰極上，利用輝光放電(或另加發(fā)熱體)使樣品升溫到預(yù)定的溫度，然后通入適量的反應(yīng)氣體，氣體經(jīng)一系列化學(xué)反應(yīng)和等離子體反應(yīng)，在樣品表面形成固態(tài)薄膜。在等離子化學(xué)氣相沉積法中，等離子體中電子溫度高達(dá)104...

PVD鍍膜技術(shù)的原理：PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。PVD鍍膜膜層的特點(diǎn)：采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)，膜層的壽命更長(zhǎng)；同時(shí)膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類：PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級(jí)鍍層且無(wú)污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和...

真空鍍膜技術(shù)除化學(xué)氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下特點(diǎn)：(1)各種鍍膜技術(shù)都需一個(gè)特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動(dòng)，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。(2)各種鍍膜技術(shù)都需有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn)，擴(kuò)大了制膜材料的選用范圍，無(wú)論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機(jī)物質(zhì)，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜，還可以同時(shí)蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發(fā)或?yàn)R射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對(duì)其膜厚可進(jìn)行比較精確的測(cè)量和控制，從而保證膜厚的均勻性。(4...

真空鍍膜設(shè)備主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。那么，真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件以及保養(yǎng)方法有哪些？下面跟著我們潤(rùn)溢真空鍍膜一起來看看吧！真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件：1、環(huán)境溫度：10~30℃2、相對(duì)濕度：不大于70%3、冷卻水進(jìn)水溫度：不高于25℃4、冷卻水質(zhì)：城市自來水或質(zhì)量相當(dāng)?shù)乃?、供電電壓：380V，三相50Hz或220V，單相50Hz（由所用電器需要而定），電壓波動(dòng)范圍342~399V或198V~231V，頻率波動(dòng)范圍49~51Hz；6、設(shè)備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗...