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UV鍍膜生產(chǎn)工藝流程及參數(shù)：一：檢查線體，確認(rèn)各系統(tǒng)（除塵、噴槍、壓縮空氣、紅外加熱和UV固化）運(yùn)轉(zhuǎn)正常；二：清洗基材表面，去除油污（用干凈無塵布蘸白電油或異丙醇擦拭表面，并立即干燥）；三：基材靜電除塵；四：噴涂底漆，膜厚：10～30微米，可根據(jù)具體基材和要求調(diào)整；五：在30℃～70℃的紅外環(huán)境下的流平5～15分鐘；六：UV固化，曝光能量：600～1200mJ/cm2；七：下線，稍冷卻，真空鍍膜（銦、銦-錫、鋁等）；八：鍍膜完畢靜置冷卻（一般≥5分鐘，不超過4小時(shí)），再上中漆線體，或直接上面漆線體；九：噴涂中漆，膜厚：4～12微米，可根據(jù)需要添加色漿；十：在30℃～70℃的紅外環(huán)境下的流平5～...

真空鍍膜機(jī)操作程序具體操作時(shí)請參照該設(shè)備說明書和設(shè)備上儀表盤指針顯示及各旋鈕下的標(biāo)注說明。①檢查真空鍍膜機(jī)各操作控制開關(guān)是否在"關(guān)"位置。②打開總電源開關(guān)，設(shè)備送電。③低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。④安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無任何雜質(zhì)污物。⑤落下鐘罩。⑥啟動抽真空機(jī)械泵。⑦開復(fù)合真空計(jì)電源（復(fù)合真空計(jì)型號：Fzh-1A)。a.左旋鈕“1”順時(shí)針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。b.低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動，當(dāng)指針移動至110mA時(shí)，左旋鈕"1"旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。⑧當(dāng)?shù)驼?..

真空鍍膜的方法很多，主要有：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達(dá)到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強(qiáng)約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學(xué)氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物，獲得沉積薄膜的過程。(4)離子鍍：實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合，兼有兩者的工藝特點(diǎn)。表6-9列出了各種鍍膜方...

真空不導(dǎo)電電鍍和普通真空電鍍有何區(qū)別?真空鍍膜就是將塑膠，薄膜等制品置于高真空爐內(nèi)。對鋁，錫，銦等金屬加熱，使之蒸發(fā)形成金屬氣體，金屬氣體在高真空條件下自由散發(fā)，冷卻后附著于被蒸鍍物表面上，形成金屬薄膜。 真空鍍膜為什么要噴底漆和面漆?真空鍍膜前噴底漆能增加金屬層和塑材之間的附著度，使塑材表面平坦光滑。電鍍后光澤度好。-真空鍍膜后噴面漆起保護(hù)鍍層，防止氧化，污染。增強(qiáng)表面耐磨。耐刮性能。通過增加染料等物質(zhì)達(dá)到表面美觀多樣化的目的。-真空不導(dǎo)電電鍍和普通真空電鍍有何區(qū)別?真空不導(dǎo)電電鍍，又稱NCVM。普通真空電鍍習(xí)慣稱PVD。真空不導(dǎo)電電鍍的加工工藝緣于普通真空電鍍，卻比其制程復(fù)雜的多，主要區(qū)別...

真空鍍膜時(shí)，蒸發(fā)料粒子大約只以一個電子伏特的能量向工件表面蒸鍍，在工件表面與鍍層之間，形成的界面擴(kuò)散深度通常只為幾百個埃（10000埃=1微米=0.0001厘米）。也就是說比一根頭發(fā)絲的百分之一還要小。兩者間可以說幾乎沒有連接的過渡層，好似截然分開。而離子鍍時(shí)，蒸發(fā)料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動能。如果說普通真空鍍膜的粒子相當(dāng)于一個氣喘吁吁的長跑運(yùn)動員，那么離子鍍的粒子則好似乘坐了高速火箭的乘客，當(dāng)其高速轟擊工件時(shí)，不但沉積速度快，而且能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴(kuò)散層，離子鍍的界面擴(kuò)散深度可達(dá)四至五微米，也就是說比普通真空鍍膜的擴(kuò)散深度要深幾十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附...

真空鍍膜就是將塑膠，薄膜等制品置于高真空爐內(nèi)。對鋁，錫，銦等金屬加熱，使之蒸發(fā)形成金屬氣體，金屬氣體在高真空條件下自由散發(fā)，冷卻后附著于被蒸鍍物表面上，形成金屬薄膜。 真空鍍膜為什么要噴底漆和面漆?真空鍍膜前噴底漆能增加金屬層和塑材之間的附著度，使塑材表面平坦光滑。電鍍后光澤度好。-真空鍍膜后噴面漆起保護(hù)鍍層，防止氧化，污染。增強(qiáng)表面耐磨。耐刮性能。通過增加染料等物質(zhì)達(dá)到表面美觀多樣化的目的。-真空不導(dǎo)電電鍍和普通真空電鍍有何區(qū)別?真空不導(dǎo)電電鍍，又稱NCVM。普通真空電鍍習(xí)慣稱PVD。真空不導(dǎo)電電鍍的加工工藝緣于普通真空電鍍，卻比其制程復(fù)雜的多，主要區(qū)別是其電鍍區(qū)域不導(dǎo)電，從而不影響手機(jī)等通...

真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要，直接影響到電鍍的產(chǎn)品品質(zhì)。加工件進(jìn)入鍍膜室前一定要做到認(rèn)真的鍍前清潔處理，表面污染來自工件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物，為了避免加工過程中造成的不良，真空鍍加工廠家基本上可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。對經(jīng)過清洗處理的清潔表面，不能在大氣環(huán)境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳?xì)浠衔镎魵獾奈綔p至更小。因?yàn)檫@些容器優(yōu)先吸附碳?xì)浠衔?。真空鍍膜加工對于高度不穩(wěn)定的、對水蒸氣敏感的表面，一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。什么叫UV真空鍍膜？讓潤溢為您解答。四川化妝品真...

PVD技術(shù)具有膜/基結(jié)合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應(yīng)用的靶材普遍、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復(fù)性好等優(yōu)點(diǎn)。同時(shí)，由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下，因此可作為處理工藝用于高速鋼和硬質(zhì)合金類的薄膜刀具上。由于采用PVD工藝可大幅度提高刀具的切削性能，人們在競相開發(fā)高性能、高可靠性設(shè)備的同時(shí)，也對其應(yīng)用領(lǐng)域的擴(kuò)展，尤其是在高速鋼、硬質(zhì)合金和陶瓷類刀具中的應(yīng)用進(jìn)行了更加深入的研究。CVD技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng)，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣相沉積和兼有CV...

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較，具有下列優(yōu)點(diǎn)：(1)薄膜和基體選材，薄膜厚度可進(jìn)行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結(jié)合強(qiáng)度好，薄膜牢固。(4)干式鍍膜既...

UV鍍膜生產(chǎn)工藝流程及參數(shù)：一：檢查線體，確認(rèn)各系統(tǒng)（除塵、噴槍、壓縮空氣、紅外加熱和UV固化）運(yùn)轉(zhuǎn)正常；二：清洗基材表面，去除油污（用干凈無塵布蘸白電油或異丙醇擦拭表面，并立即干燥）；三：基材靜電除塵；四：噴涂底漆，膜厚：10～30微米，可根據(jù)具體基材和要求調(diào)整；五：在30℃～70℃的紅外環(huán)境下的流平5～15分鐘；六：UV固化，曝光能量：600～1200mJ/cm2；七：下線，稍冷卻，真空鍍膜（銦、銦-錫、鋁等）；八：鍍膜完畢靜置冷卻（一般≥5分鐘，不超過4小時(shí)），再上中漆線體，或直接上面漆線體；九：噴涂中漆，膜厚：4～12微米，可根據(jù)需要添加色漿；十：在30℃～70℃的紅外環(huán)境下的流平5～...

真空鍍膜設(shè)備主要指需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括多弧離子真空鍍膜設(shè)備，真空離子蒸發(fā)，光學(xué)鍍膜機(jī)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。真空鍍膜的工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結(jié)晶。由于空氣對蒸發(fā)的膜體分子會產(chǎn)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變得粗糙無光，所以必須在高真空下才能使結(jié)晶體細(xì)密光亮，如果真空度不高結(jié)晶體就會失去光澤結(jié)合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射，結(jié)合差工效低光澤差?，F(xiàn)在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，解決了過去自然蒸發(fā)無法加工的...

UV是一種鍍膜環(huán)保油墨，UV真空鍍膜簡單理解就是產(chǎn)品要用UV油做環(huán)保鍍膜加工。像一些手機(jī)殼內(nèi)的都是采用這種鍍膜方式的。不然過不了環(huán)保。下面潤溢鍍膜為您介紹下UV真空鍍膜是什么鍍膜。UV真空鍍膜涂料主要由紫外光固化樹脂、單體、光引發(fā)劑、色料、流平劑、附著力促進(jìn)劑等組成，根據(jù)應(yīng)用面分工，主要由UV真空鍍膜底漆和UV真空鍍膜面漆組成，為了匹配現(xiàn)代新的鍍膜技術(shù)，有的還加有真空鍍膜中涂層。V真空鍍膜涂料主要由紫外光固化樹脂、單體、光引發(fā)劑、色料、流平劑、附著力促進(jìn)劑等組成，根據(jù)應(yīng)用面分工，主要由UV真空鍍膜底漆和UV真空鍍膜面漆組成，為了匹配現(xiàn)代新的鍍膜技術(shù)，有的還加有真空鍍膜中涂層。真空鍍膜的原理是什...

真空鍍膜設(shè)備主要指需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括多弧離子真空鍍膜設(shè)備，真空離子蒸發(fā)，光學(xué)鍍膜機(jī)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。真空鍍膜的工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結(jié)晶。由于空氣對蒸發(fā)的膜體分子會產(chǎn)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變得粗糙無光，所以必須在高真空下才能使結(jié)晶體細(xì)密光亮，如果真空度不高結(jié)晶體就會失去光澤結(jié)合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射，結(jié)合差工效低光澤差?，F(xiàn)在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發(fā)分子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，解決了過去自然蒸發(fā)無法加工的...

真空鍍膜工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍?nèi)N。真空蒸鍍，簡稱蒸鍍，是指在真空條件下，采用一定的加熱蒸發(fā)方式蒸發(fā)鍍膜材料（或稱膜料）并使之氣化，粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。離子鍍是真空鍍膜工藝的一項(xiàng)新發(fā)展。普通真空鍍膜（亦稱真空蒸鍍）時(shí)，工件夾固在真空罩內(nèi)，當(dāng)高溫蒸發(fā)源通電加熱后，促使待鍍材料——蒸發(fā)料熔化蒸發(fā)。為什么需要進(jìn)行真空鍍膜呢？這項(xiàng)工藝已經(jīng)成為了電子元器件制造中的一項(xiàng)不可或缺的技術(shù)，主要是為了使產(chǎn)品表面具有耐磨損耐高溫，耐腐蝕等優(yōu)于產(chǎn)品本身的性能，從而提高產(chǎn)品的質(zhì)量，延長加工產(chǎn)品的使用壽命，不只如此，還可以節(jié)約能源，獲得更為明顯的技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益。實(shí)際應(yīng)用中，我們往往會根...

隨著電鍍行業(yè)的進(jìn)步和發(fā)展，由于每個電鍍企業(yè)經(jīng)營理念不同，90﹪的電鍍企業(yè)還停留在十幾年前的技術(shù)管理水平上，面對原料價(jià)格的飛漲、招工困難、人工成本不斷增加、產(chǎn)品加工價(jià)格下降、客戶要求的不斷提高、企業(yè)惡性競爭，缺乏行業(yè)自律，并由此導(dǎo)致企業(yè)經(jīng)濟(jì)效益低下，嚴(yán)重制約行業(yè)的健康發(fā)展;特別是國家不斷推出環(huán)保新政的情況下，部分表面處理企業(yè)的問題被暴露或放大，如缺少與單位的溝通，“三廢”治理水平低，環(huán)保先進(jìn)技術(shù)難以推廣，節(jié)能減排進(jìn)展緩慢等競爭日趨激烈的環(huán)境，30--40﹪的電鍍企業(yè)已經(jīng)被淘汰，電鍍行業(yè)兩極分化十分嚴(yán)重。塑料真空鍍膜與UV電鍍噴涂的區(qū)別。杭州塑膠真空鍍膜流程真空鍍膜工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍...

真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要，直接影響到電鍍的產(chǎn)品品質(zhì)。加工件進(jìn)入鍍膜室前一定要做到認(rèn)真的鍍前清潔處理，表面污染來自工件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物，為了避免加工過程中造成的不良，真空鍍加工廠家基本上可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。對經(jīng)過清洗處理的清潔表面，不能在大氣環(huán)境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳?xì)浠衔镎魵獾奈綔p至更小。因?yàn)檫@些容器優(yōu)先吸附碳?xì)浠衔?。真空鍍膜加工對于高度不穩(wěn)定的、對水蒸氣敏感的表面，一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。真空鍍膜是相對于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來的一...

在鍍膜領(lǐng)域，鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個重要因素。因此，當(dāng)評價(jià)某薄膜樣品的性能時(shí)，需要檢測該薄膜樣品不同厚度下的性能。對于真空鍍膜的情形，這往往需要進(jìn)行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個問題：首先，不同次生長的樣品，儀器的狀態(tài)不同，以至于影響薄膜樣品性能的因素可能不只是厚度；其次，真空鍍膜實(shí)驗(yàn)裝取樣品需要重新進(jìn)行真空的獲得，非常耗時(shí)。增加了生產(chǎn)和檢測的成本。因此，提供一種多功能磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，本系統(tǒng)由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進(jìn)行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸發(fā)鍍膜與手套箱組合，實(shí)現(xiàn)蒸鍍、封裝...

真空鍍膜的工藝流程是怎么樣的呢，下面潤溢真空鍍膜小編就來和大家分享一下：1、按鍍膜機(jī)操作規(guī)程接通冷卻水和壓縮空氣，打開電源，預(yù)熱50分鐘，打開離子轟擊的高頻電源開關(guān)預(yù)熱；2、將石英片裝入符合要求的被銀夾具中，在烘箱中加熱到170~180℃，保持30分鐘；3、對真空室充氣，并升起真空罩，清理真空室，按擋板鍵，移開擋板，在鉬舟中加入所要求的銀絲，并檢查轟擊圈與修正版的位置是否正確，插入已預(yù)熱好的裝有石英片的被銀夾具，迅速降下真空罩，抽低真空和高真空，待真空度達(dá)到≤6.67×10-3Pa。4、按模架旋轉(zhuǎn)按鈕，打開轟擊高頻電源的板壓開關(guān)，打開針閥通入干燥干凈的氬氣或空氣，使真空度達(dá)3~5×10-4乇（...

真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較，具有下列優(yōu)點(diǎn)：(1)薄膜和基體選材廣，薄膜厚度可進(jìn)行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結(jié)合強(qiáng)度好，薄膜牢固。(4)干式鍍膜既不產(chǎn)生廢液，也無環(huán)境污染。真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較，具有上述一些優(yōu)點(diǎn)。真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應(yīng)用場合非常豐富。cvd真空鍍膜應(yīng)用真空不導(dǎo)電電鍍，稱NCVM，是一種真空電鍍的高新技術(shù)。也是目前塑膠件外殼普...

真空鍍膜底漆底涂處于基材和真空鍍層之間，其作用主要有：（1）通過底涂封閉基材，防止真空鍍膜時(shí)基材中的揮發(fā)性雜質(zhì)逸出，影響鍍膜質(zhì)量;（2）塑料表面較粗糙，底涂預(yù)處理后，可通過涂層獲得光滑平整的鏡面效果;（3）在薄膜材料上預(yù)涂底漆可進(jìn)一步加強(qiáng)薄膜的阻隔性;（4）預(yù)涂底漆有利于獲得更厚的真空鍍層，展現(xiàn)出更高的反射效果和力學(xué)性能;（5）某些表面極性較低的基材如PP等與鍍層的附著力較差，通過底漆可獲得較好的鍍層附著性;（6）對某些耐熱性較差的塑料基材，底涂可以起到一定的熱緩沖作用，保護(hù)基材免遭熱致形變。我國真空鍍膜技術(shù)的趨勢。硅膠真空鍍膜材料塑料真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)...

真空鍍膜主要有兩個大種類：蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等。一、對于蒸發(fā)鍍膜：一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。厚度均勻性主要取決于：1。基片材料與靶材的晶格匹配程度2、基片表面溫度3.蒸發(fā)功率，速率4.真空度5.鍍膜時(shí)間，厚度大小。組分均勻性：蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。真空鍍膜的成本大約是多少？廣東省硅膠真空鍍膜工藝因?yàn)樵谡婵照翦兺曛筮€要噴一層UV光油面漆，這層面漆上可以做不同的顏色。蒸鍍通過鍍一些硅...

塑料真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類，即物理汽相沉積（PVD）技術(shù)和化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)。真空鍍膜系統(tǒng)的應(yīng)用和制造方法。順德燈飾真空鍍膜廠家潤溢真空鍍膜廠分享：真空鍍膜的操作規(guī)程。1．在真空鍍膜機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)正常情況下，開動真空鍍膜機(jī)時(shí)，必須先開水管，工作中應(yīng)隨時(shí)注意水壓。2．在離子轟擊...

在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀(jì)30年代，四五十年代開始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用，工業(yè)化大規(guī)模生產(chǎn)開始于20世紀(jì)80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業(yè)中取得的應(yīng)用。真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料)，屬于物liqi相沉積工藝。因?yàn)殄儗映榻饘俦∧ぃ室卜Q真空金屬化。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射，結(jié)合差工效低光澤差。湖南工藝品真...

真空鍍膜的工藝流程是怎么樣的呢，下面潤溢真空鍍膜小編就來和大家分享一下：1、按鍍膜機(jī)操作規(guī)程接通冷卻水和壓縮空氣，打開電源，預(yù)熱50分鐘，打開離子轟擊的高頻電源開關(guān)預(yù)熱；2、將石英片裝入符合要求的被銀夾具中，在烘箱中加熱到170~180℃，保持30分鐘；3、對真空室充氣，并升起真空罩，清理真空室，按擋板鍵，移開擋板，在鉬舟中加入所要求的銀絲，并檢查轟擊圈與修正版的位置是否正確，插入已預(yù)熱好的裝有石英片的被銀夾具，迅速降下真空罩，抽低真空和高真空，待真空度達(dá)到≤6.67×10-3Pa。4、按模架旋轉(zhuǎn)按鈕，打開轟擊高頻電源的板壓開關(guān)，打開針閥通入干燥干凈的氬氣或空氣，使真空度達(dá)3~5×10-4乇（...

真空鍍膜與蒸發(fā)鍍膜機(jī)、濺射鍍膜機(jī)相比，主要有如下幾點(diǎn)：①膜/基結(jié)合力（附著力）強(qiáng)，膜層不易脫落。由于離子轟擊基體產(chǎn)生的濺射作用，使基體受到清洗，jihuo及加熱，既可以去除基體表面吸附的氣體和污染層，也可以去除基體表面的氧化物。離子轟擊時(shí)鏟射的加熱和缺陷可引起基體的增強(qiáng)擴(kuò)散效應(yīng)。既提高了基體表面層組織結(jié)晶性能，也提供了合金相形成的條件。而且，較高能量的離子轟擊，還可以產(chǎn)生一定的離子注入和離子束混合效應(yīng)。②離子鍍膜機(jī)由于產(chǎn)生良好的繞射性。在壓力較高的情況下（≧1Pa）被電離的蒸汽的離子或分子在到達(dá)基體前的路程上將會遇到氣體分子的多次碰撞。因此，可使膜材粒子散射在基體的周圍。從而改善了膜層的覆蓋性...

真空不導(dǎo)電電鍍和普通真空電鍍有何區(qū)別?真空鍍膜就是將塑膠，薄膜等制品置于高真空爐內(nèi)。對鋁，錫，銦等金屬加熱，使之蒸發(fā)形成金屬氣體，金屬氣體在高真空條件下自由散發(fā)，冷卻后附著于被蒸鍍物表面上，形成金屬薄膜。 真空鍍膜為什么要噴底漆和面漆?真空鍍膜前噴底漆能增加金屬層和塑材之間的附著度，使塑材表面平坦光滑。電鍍后光澤度好。-真空鍍膜后噴面漆起保護(hù)鍍層，防止氧化，污染。增強(qiáng)表面耐磨。耐刮性能。通過增加染料等物質(zhì)達(dá)到表面美觀多樣化的目的。-真空不導(dǎo)電電鍍和普通真空電鍍有何區(qū)別?真空不導(dǎo)電電鍍，又稱NCVM。普通真空電鍍習(xí)慣稱PVD。真空不導(dǎo)電電鍍的加工工藝緣于普通真空電鍍，卻比其制程復(fù)雜的多，主要區(qū)別...

隨著工業(yè)的迅速發(fā)展，塑料電鍍的應(yīng)用日益普遍，成為塑料產(chǎn)品中表面裝飾的重要手段之一。目前國內(nèi)外已普遍在ABS、聚丙烯、聚砜、聚碳酸酯、尼龍、酚醛玻璃纖維增強(qiáng)塑料、聚苯乙烯等塑料表面上進(jìn)行電鍍，其中尤以ABS塑料電鍍應(yīng)用廣，電鍍效果好。塑料電鍍外觀要求比金屬制品的電鍍面更光潔，光亮度一般都能達(dá)到，但在其程度上就有一定的差別。通常認(rèn)為，較好的塑料電鍍外觀是亮中發(fā)“烏黑”，光亮度視覺感很“厚實(shí)”。這種宏觀感覺是由表面的微觀狀態(tài)所決定的，也就是說微觀表面必須非常平整。塑料電鍍的鍍層不能有霧狀存在，極輕微的霧狀，在強(qiáng)光下或正視時(shí)是發(fā)現(xiàn)不了的，要在特定的角度和光線下才能發(fā)現(xiàn)，因此易被忽視。至于露塑、脫皮、毛...

真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。除化學(xué)氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下的共同特點(diǎn)：(1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。(2)各種鍍膜技術(shù)都需要有一個蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn)，擴(kuò)大了制膜材料的選用范圍，無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機(jī)物質(zhì)，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜，而且還可以同時(shí)蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發(fā)或?yàn)R射出來的制膜材料，...

真空鍍膜設(shè)備適用范圍：①建筑五金：衛(wèi)浴五金如水龍頭，水管、門鎖、衛(wèi)浴、門鎖、問門拉手、五金合葉、家具等。②制表業(yè)：可用于表殼、水晶答制品表帶的鍍膜。③其它小五金：皮革五金、不銹鋼餐、具眼鏡框、刀具、模具等。④大型工件：汽車輪轂、合金、不銹鋼板、招專牌、雕塑等。⑤不銹鋼管和板各種類型表面⑥家具、燈具、賓館用具。⑦鎖具、拉手、衛(wèi)浴五金、高爾夫球頭、不銹鋼餐具、器血等五金制品鍍超硬裝飾膜。⑧手表、表帶、眼鏡、首飾等裝飾品鍍超耐磨裝飾（金銀）納米膜和納屬米膜和納米疊層膜真空鍍膜設(shè)備的優(yōu)勢和缺點(diǎn)：①真空鍍膜真的對人的危害很小的。②電磁確實(shí)輻射很小。③真空泵排氣要直接到室外一定要做好空氣的排放環(huán)保。...

20世紀(jì)70年代，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導(dǎo)體，而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學(xué)還原法，必須把膜材配制成溶液，并能迅速參加還原反應(yīng)，這種鍍膜方法不只薄膜的結(jié)合強(qiáng)度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時(shí)還會產(chǎn)生大量的廢液，造成嚴(yán)重的污染。因此，這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。真空鍍膜則是相對于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來的一種新型鍍膜技術(shù)，通常稱為干式鍍膜技術(shù)。真空鍍膜的原理是什么？四川五金鋁材真空鍍膜技術(shù)真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較...