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納米UV資訊

來源: 發(fā)布時間:2022-03-07

真空鍍膜設備在應用的過程中,你知道它為什么這么受到歡迎嗎?下面跟著真空鍍膜設備廠家潤溢一起來了解下真空鍍膜設備的優(yōu)勢。1、改善美觀,表面光滑,金屬光澤彩色化,裝飾性極大提高;2、容易清洗,不吸塵。3、改善表面硬度,原塑膠表面比金屬軟而易受損害,通過真空鍍膜技術,硬度及耐磨性極大增加;4、減少吸水率,鍍膜次數愈多,針型孔愈少,吸水率降低,且制品不易變形,提高耐熱性;5、使塑料表面有導電性;6、可以提高耐候性,一般塑料在室外會老化的非???,主要原因是紫外線照射所致,而鍍鋁后,鋁對紫外線反射強,所以耐候性極大提高。UV真空鍍膜機主要是指一種在高真空鍍膜設備中的需求.納米UV資訊

UV固化是輻射固化的一類,輻射固化是利用電磁輻射,如紫外線(UV)或電子束(EB)照射涂層,產生輻射聚合、輻射交聯(lián)和輻射接技等反應。迅速將低分子量物質轉變成高分子量產物的化學過程,固化是直接在不加熱的底材上進行的,體系中不含溶劑或含極少量溶劑,輻照后液膜幾乎100%固化,因而VOC(揮發(fā)性有機化合物)排放量很低。UV光固化體系分為自由基體系和陽離子體系,兩者固化機理成分都有所不同。自由基體系是由光引發(fā)劑受UV照射激發(fā)產生自由基,引發(fā)單體和預聚物聚合交聯(lián);陽離子體系是由陽離子光引發(fā)劑受輻射產生強質子酸,催化加成聚合。納米UV資訊UV真空鍍膜在進行真空鍍時需要進行前處理除油。

真空鍍膜設備具體操作:①檢查真空鍍膜設備各操作控制開關是否在"關"位置。②打開總電源開關,真空鍍膜設備送電。③低壓閥拉出。開充氣閥,聽不到氣流聲后,啟動升鐘罩閥,鐘罩升起。④安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內。清理鐘罩內各部位,保證無任何雜質污物。⑤落下鐘罩。⑥啟動真空鍍膜設備抽真空機械泵。⑦開復合真空計電源(復合真空計型號:Fzh-1A)。a.左旋鈕“1”順時針旋轉至指向2區(qū)段的加熱位置。b.低真空表“2”內指針順時針移動,當指針移動至110mA時,左旋鈕"1"旋轉至指向2區(qū)段測量位置。⑧當低真空表“2”內指針再次順時針移動至6.7Pa時,低壓閥推入。這時左旋鈕“1”旋轉至指向1區(qū)段測量位置。⑨真空鍍膜設備開通冷卻水,啟動擴散泵,加熱40min。⑩低壓閥拉出。重復一次⑦動作程序:左下旋鈕“1”轉至指向2區(qū)段測量位置。低真空表“2”內指針順時針移動,當指針移動至6.7Pa時,開高壓閥(閥桿順時針旋轉)。等低真空表“2”內指針右移動至0.1Pa時,開規(guī)管燈絲開關。

水性光固化樹脂是含有親水性基團和不飽和官能團的預聚物,決定了整個樹脂的基本性能,官能團的種類影響樹脂的固化速率。親水基團可以是羧基、磺酸基、氨基、醚基或酰胺基等。用得比較多的親水基團是羧基。不飽和基團通常采用丙烯酰基、甲基丙烯?;?、烯丙基或乙烯基醚等。親水基團使得水性UV固化樹脂結構更加復雜。通過與帶不飽和雙鍵或親水基團的單體反應,使之獲得UV固化能力和親水性。1、水性紫外光固化樹脂的優(yōu)點水性紫外光固化樹脂與傳統(tǒng)的溶劑型UV光固化樹脂相比,主要有如下優(yōu)點(1)不必借助活性稀釋劑來調節(jié)粘度,可解決VOC及毒性、刺激性的問題;(2)易于得到光固化前的無粘性干膜,尤其對以中、高分子量聚合物為基料的涂料,保證了固化膜的光潔度,簡化了防塵操作;陽離子UV光固化機理同樣可以分為鏈引發(fā)、鏈增長、鏈終止三個過程。

光固化體系也有如下缺點:固化深 度受限;在有色體系和不透明材質中難以應用;固化對象的形狀不能太復雜。為此又發(fā) 展了將光固化與其它固化方式結合起來的雙重固化體系。在此體系中,體系的交聯(lián)或聚 合反應是通過兩個的具有不同反應原理的階段來完成的。其中一個階段是通過紫外 光反應,另一階段是通過熱固化、濕氣固化、氧化固化或厭氧固化等暗反應來進行的。 這樣就可以利用紫外光使體系快速定型或達到“表干”,而利用暗反應使“陰影”部分 或內層充分固化,達到“實干雙重固化擴展了紫外光固化膠粘劑在不透明介質間、 形狀復雜的基材超厚膠層及有色膠層中的應用。此種體系賦予紫外光固化膠粘劑更強大 的競爭力。關于水性UV樹脂你知道多少?中山真空鍍膜UV廠商

UV電鍍噴涂與塑料真空鍍膜的區(qū)別。納米UV資訊

UV真空鍍膜的過程,就是電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片.氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜.但在實際輝光放電直流濺射系統(tǒng)中,自持放電很難在低于1.3Pa的條件下維持,這是因為在這種條件下沒有足夠的離化碰撞.因此在低于1.3~2.7Pa壓強下運行的濺射系統(tǒng)提高離化碰撞就顯得尤為重要.提高離化碰撞的方法要么靠額外的電子源來提供,而不是靠陰極發(fā)射出來的二次電子;要么就是利用高頻放電裝置或者施加磁場的方式提高已有電子的離化效率。納米UV資訊

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