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渭南好的高光譜成像儀工業(yè)化

來源: 發(fā)布時(shí)間:2022-05-16

所謂高光譜圖像就是在光譜維度上進(jìn)行了細(xì)致的分割,不僅*是傳統(tǒng)所謂的黑、白或者R、G、B的區(qū)別,而是在光譜維度上也有N個(gè)通道,例如:我們可以把400nm-1000nm分為300個(gè)通道。因此,通過高光譜設(shè)備獲取到的是一個(gè)數(shù)據(jù)立方,不僅有圖像的信息,并且在光譜維度上進(jìn)行展開,結(jié)果不僅可以獲得圖像上每個(gè)點(diǎn)的光譜數(shù)據(jù),還可以獲得任一個(gè)譜段的影像信息。高光譜成像技術(shù)是基于非常多窄波段的影像數(shù)據(jù)技術(shù),它將成像技術(shù)與光譜技術(shù)相結(jié)合,探測目標(biāo)的二維幾何空間及一維光譜信息,獲取高光譜分辨率的連續(xù)、窄波段的圖像數(shù)據(jù)。目前高光譜成像技術(shù)發(fā)展迅速,常見的包括光柵分光、聲光可調(diào)諧濾波分光、棱鏡分光、芯片鍍膜等。然后通過分光元件投射到面陣相機(jī);計(jì)算機(jī)軟件和硬件用來控制高光譜成像系統(tǒng)采集數(shù)據(jù)。渭南好的高光譜成像儀工業(yè)化

AOTF系統(tǒng)組成:成像物鏡+準(zhǔn)直鏡+偏振片+晶體+偏振片+物鏡+detector,入射光經(jīng)過物鏡會(huì)聚之后進(jìn)入準(zhǔn)平行鏡(把所有的入射光變成平行光),準(zhǔn)平行光進(jìn)入偏振片通過同一方向的傳播的光,平行光進(jìn)入晶體之后,平行于光軸的光按照原來方向前行,非平行光進(jìn)行衍射,分成兩束相互垂直o光和e光(入射光的波長不同經(jīng)過晶體之后的o光與e光的角度也不同,因此在改變波長的過程中,圖像會(huì)出現(xiàn)漂移);o光和e光及0級(jí)光分別會(huì)聚在不同的面上。如圖所示:圖4為了保證入射光經(jīng)過準(zhǔn)平行鏡之后能夠完全變化成平行光,因此對(duì)前端的物鏡視場角有一定的要求,根據(jù)晶體的xxx角,可算出物鏡比較大的視場角,小于比較大視場角的情況,成像ok,如果大于視場角,則會(huì)造成重影(衍射光與0級(jí)光都進(jìn)入了sensor);安康大規(guī)模高光譜成像儀售價(jià)分光設(shè)備是高光譜成像系統(tǒng)的**元件之一光學(xué)元件把寬波長的混合光分散為不同頻率的單波長光。

棱鏡分光圖5入射光通過棱鏡后被分成不同的方向,然后照射到不同方向的探測器上進(jìn)行成像。棱鏡分光后,在棱鏡的出射面鍍了不同波段的濾光膜,使得不同方向的探測器可以采集到不同光譜信息,實(shí)現(xiàn)同時(shí)采集空間及光譜信息。芯片鍍膜近年來,IMEC(歐洲微電子研究中心)采用高靈敏CCD芯片及SCMOS芯片研制了一種新的高光譜成像技術(shù),在探測器的像元上分別鍍不同波段的濾波膜實(shí)現(xiàn)高光譜成像,此技術(shù)**降低了高光譜成像的成本。目前IMEC提供三種標(biāo)準(zhǔn)的光譜探測器:100波帶的線掃描探測器,32波帶的瓷磚式鍍膜探測器,16波帶以4x4為一個(gè)波段的馬賽克式鍍膜探測器

在電力系統(tǒng)中,當(dāng)高壓輸電線間電壓超過一定值將導(dǎo)致導(dǎo)線表面的空氣高度游離,從而失去良好的絕緣特性而變成導(dǎo)體,進(jìn)而形成了放電,我們把這種現(xiàn)象稱為電暈。電暈現(xiàn)象的產(chǎn)生會(huì)對(duì)高壓電力系統(tǒng)造成巨大的危害,包括電能的損失、電氣設(shè)備的腐蝕和無線電干擾等,因此準(zhǔn)確檢測出電暈放電的位置和強(qiáng)弱對(duì)電力系統(tǒng)的運(yùn)行和維護(hù)有著重要的意義。電暈放電過程中輻射的光譜涵蓋了紫外、可見和紅外譜段,其波長主要范圍在電力系統(tǒng)中,當(dāng)高壓輸電線間電壓超過一定值將導(dǎo)致導(dǎo)線表面的空氣高度游離,從而失去良好的絕緣特性而變成導(dǎo)體,進(jìn)而形成了放電,我們把這種現(xiàn)象稱為電暈。電暈現(xiàn)象的產(chǎn)生會(huì)對(duì)高壓電力系統(tǒng)造成巨大的危害,包括電能的損失、電氣設(shè)備的腐蝕和無線電干擾等,因此準(zhǔn)確檢測出電暈放電的位置和強(qiáng)弱對(duì)電力系統(tǒng)的運(yùn)行和維護(hù)有著重要的意義。電暈放電過程中輻射的光譜涵蓋了紫外、可見和紅外譜段,其波長主要范圍隨著高光譜成像的光譜分辨率的提高,其探測能力也有所增強(qiáng)。

高光譜成像技術(shù)是基于非常多窄波段的影像數(shù)據(jù)技術(shù),它將成像技術(shù)與光譜技術(shù)相結(jié)合,探測目標(biāo)的二維幾何空間及一維光譜信息,獲取高光譜分辨率的連續(xù)、窄波段的圖像數(shù)據(jù)。目前高光譜成像技術(shù)發(fā)展迅速,常見的包括光柵分光、聲光可調(diào)諧濾波分光、棱鏡分光、芯片鍍膜等。高光譜遙感高光譜遙感是通過高光譜傳感器探測物體反射的電磁波而獲得地物目標(biāo)的空間和頻譜數(shù)據(jù),成立于20世紀(jì)初期的測譜學(xué)就是它的基礎(chǔ)。高光譜遙感的出現(xiàn)使得許多使用寬波段無法探查到的物體,更加容易被探測到,所以高光譜遙感的出現(xiàn)時(shí)成功的是**性的。并把分散光投射到面陣相機(jī)上; 相機(jī)是高光譜成像系統(tǒng)的另一個(gè)**元件。商洛標(biāo)準(zhǔn)高光譜成像儀量大從優(yōu)

系統(tǒng)主要由面陣相機(jī)、分光設(shè)備、光源、傳輸機(jī)構(gòu)及計(jì)算機(jī)軟硬件等五部分構(gòu)成。渭南好的高光譜成像儀工業(yè)化

芯片鍍膜近年來,IMEC(歐洲微電子研究中心)采用高靈敏CCD芯片及SCMOS芯片研制了一種新的高光譜成像技術(shù),在探測器的像元上分別鍍不同波段的濾波膜實(shí)現(xiàn)高光譜成像,此技術(shù)**降低了高光譜成像的成本。目前IMEC提供三種標(biāo)準(zhǔn)的光譜探測器:100波帶的線掃描探測器,32波帶的瓷磚式鍍膜探測器,16波帶以4x4為一個(gè)波段的馬賽克式鍍膜探測器這種光譜技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)是可以同時(shí)獲得光譜分辨率和空間分辨率,可以進(jìn)行快速、高性能地獲得光譜信息和空間信息,集成度高,成本低。但是缺點(diǎn)是光譜靈敏度較低,一般大于10nm,多用于無人機(jī)等大范圍掃描的光譜應(yīng)用領(lǐng)域。 [1渭南好的高光譜成像儀工業(yè)化

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