新舊半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口報(bào)關(guān)辦理機(jī)電證、CCIC等需一般資料是：1、申請(qǐng)表2、申請(qǐng)報(bào)告（報(bào)告詳細(xì)寫明企業(yè)的基本情況、生產(chǎn)情況、進(jìn)口機(jī)電設(shè)備的用途、生產(chǎn)制造日期、使用年限、現(xiàn)在狀況，如生產(chǎn)日期較早必須作出特殊情況說明）3、機(jī)電設(shè)備檢測(cè)說明，上海專業(yè)的半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口報(bào)關(guān)經(jīng)驗(yàn)豐富，必須出具國家檢驗(yàn)機(jī)構(gòu)或機(jī)電設(shè)備供應(yīng)商提供的檢測(cè)報(bào)告，上海專業(yè)的半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口報(bào)關(guān)經(jīng)驗(yàn)豐富。4、企業(yè)的營業(yè)執(zhí)照、批準(zhǔn)證書（外商投資企業(yè)須提供）5、設(shè)備清單（含原產(chǎn)地、品牌、型號(hào)、貨值、生產(chǎn)年份、使用年限等）6、機(jī)電設(shè)備彩色照片7、工作聯(lián)系單新舊半導(dǎo)體清關(guān)一般所需資料：A進(jìn)口法定檢驗(yàn)B進(jìn)口機(jī)電許可證(舊)C進(jìn)口舊機(jī)電產(chǎn)品裝運(yùn)前檢驗(yàn)證書(我國九個(gè)駐外商檢機(jī)構(gòu):日本、香港、不萊梅、馬賽、倫敦、加拿大、歐洲、北美、西班牙）D進(jìn)口口岸檢疫局辦的進(jìn)口舊機(jī)電產(chǎn)品備案申請(qǐng)書E如進(jìn)口的機(jī)器是印刷機(jī)就需要到國家總暑辦理印刷經(jīng)營許可證F如產(chǎn)品稅號(hào)涉及到國家強(qiáng)制認(rèn)證的需提供3C證書G如進(jìn)口國為美日韓歐盟等國家的還需提供IPPC，上海專業(yè)的半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口報(bào)關(guān)經(jīng)驗(yàn)豐富。韓國半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口清關(guān)代理，半導(dǎo)體制造設(shè)備清關(guān)服務(wù)、半導(dǎo)體設(shè)備生產(chǎn)線進(jìn)口報(bào)關(guān)代理。上海專業(yè)的半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口報(bào)關(guān)經(jīng)驗(yàn)豐富

分子束外延系統(tǒng)（MBE，MolecularBeamEpitaxySystem）設(shè)備名稱：分子束外延系統(tǒng)設(shè)備功能：分子束外延系統(tǒng)，提供在沉底表面按特定生長薄膜的工藝設(shè)備；分子束外延工藝，是一種制備單晶薄膜的技術(shù)，它是在適當(dāng)?shù)囊r底與合適的條件下，沿襯底材料晶軸方向逐層生長薄膜。主要企業(yè)（品牌）：國際：法國Riber公司、美國Veeco公司、芬蘭DCAInstruments公司、美國SVTAssociates公司、美國NBM公司、德國Omicron公司、德國MBE-Komponenten公司、英國OxfordAppliedResearch（OAR）公司......國內(nèi)：沈陽中科儀器、北京匯德信科技有限公司、紹興匡泰儀器設(shè)備有限公司、沈陽科友真空技術(shù)有限公司......4、氧化爐（VDF）設(shè)備名稱：氧化爐設(shè)備功能：為半導(dǎo)體材料進(jìn)行氧化處理，提供要求的氧化氛圍，實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體預(yù)期設(shè)計(jì)的氧化處理過程，是半導(dǎo)體加工過程的不可缺少的一個(gè)環(huán)節(jié)。主要企業(yè)。上海代理半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口報(bào)關(guān)怎么收費(fèi)根據(jù)進(jìn)口商品的HS編碼，確定關(guān)稅稅率和進(jìn)口環(huán)節(jié)所需的其他稅費(fèi)。

半導(dǎo)體設(shè)備位于整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的上游，在新建晶圓廠中半導(dǎo)體設(shè)備支出的占比普遍達(dá)到80%。一條晶圓制造新建產(chǎn)線的資本支出占比如下：廠房20%、晶圓制造設(shè)備65%、組裝封裝設(shè)備5%，測(cè)試設(shè)備7%，其他3%。其中晶圓制造設(shè)備在半導(dǎo)體設(shè)備中占比比較大，進(jìn)一步細(xì)分晶圓制造設(shè)備類型，光刻機(jī)占比30%，刻蝕20%，PVD15%，CVD10%，量測(cè)10%，離子注入5%，拋光5%，擴(kuò)散5%。17年全球半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)總量約為566億美元，同比+37%，2018年預(yù)計(jì)在600億美元規(guī)模。中國是全球半導(dǎo)體設(shè)備的第三大市場(chǎng)，17年中國半導(dǎo)體設(shè)備，增速27%。1956年制定的《1956-1967科學(xué)技術(shù)發(fā)展遠(yuǎn)景規(guī)劃》中，已將半導(dǎo)體技術(shù)列為四大科研重點(diǎn)之一，明確提出“在12年內(nèi)可以制備和改進(jìn)各種半導(dǎo)體器材、器件”的目標(biāo)。同期教育部集中各方資源在北京大學(xué)設(shè)立半導(dǎo)體專業(yè)，培養(yǎng)了包括王陽元院士、許居衍院士等批半導(dǎo)體人才。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈復(fù)雜、技術(shù)難度高、需要資金巨大，且當(dāng)時(shí)國內(nèi)外特定的社會(huì)環(huán)境，中國在資金、人才及體制等各方面困難較多，導(dǎo)致中國半導(dǎo)體的發(fā)展舉步維艱。(圖表1、2為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈圖)直到70年代，中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的小規(guī)模生產(chǎn)才正式啟動(dòng)。原電子工業(yè)部部長在其著作《芯路歷程》中回憶這一階段歷史。

低壓化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)（LPCVD。LowPressureChemicalVaporDepositionSystem）設(shè)備名稱：低壓化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)設(shè)備功能：把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)劑的蒸氣及反應(yīng)所需其它氣體引入LPCVD設(shè)備的反應(yīng)室，在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜。主要企業(yè)（品牌）：國際：日本日立國際電氣公司......國內(nèi)：上海馳艦半導(dǎo)體科技有限公司、中國電子科技集團(tuán)第四十八所、中國電子科技集團(tuán)第四十五所、北京儀器廠、上海機(jī)械廠......6、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)（PECVD，PlasmaEnhancedCVD）設(shè)備名稱：等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)設(shè)備功能：在沉積室利用輝光放電，使其電離后在襯底上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，沉積半導(dǎo)體薄膜材料。主要企業(yè)（品牌）：國際：美國ProtoFlex公司、日本Tokki公司、日本島津公司、美國泛林半導(dǎo)體（LamResearch）公司、荷蘭ASM國際公司......國內(nèi)：中國電子科技集團(tuán)第四十五所、北京儀器廠、上海機(jī)械廠......7、磁控濺射臺(tái)（MagnetronSputterApparatus）設(shè)備名稱：磁控濺射臺(tái)設(shè)備功能：通過二極濺射中一個(gè)平行于靶表面的封閉磁場(chǎng)，和靶表面上形成的正交電磁場(chǎng)，把二次電子束縛在靶表面特定區(qū)域，實(shí)現(xiàn)高離子密度和高能量的電離。切割機(jī)進(jìn)口清關(guān)代理，固晶機(jī)進(jìn)口報(bào)關(guān)服務(wù)，焊線機(jī)進(jìn)口代理清關(guān)。

國產(chǎn)化情況:國產(chǎn)自給率低，技術(shù)加速追趕。根據(jù)中國電子設(shè)備工業(yè)協(xié)會(huì)數(shù)據(jù)，預(yù)計(jì)2018年國產(chǎn)泛半導(dǎo)體設(shè)備銷售額約109億元，但真正的IC設(shè)備國內(nèi)市場(chǎng)自給率有5%左右，國產(chǎn)替代空間巨大。在02專項(xiàng)的統(tǒng)籌規(guī)劃下，國內(nèi)半導(dǎo)體廠商分工合作研發(fā)不同設(shè)備，涵蓋了主要設(shè)備種類。國內(nèi)廠商仍處于技術(shù)追趕期，但隨著摩爾定律趨近極限，技術(shù)進(jìn)步放緩，國內(nèi)廠商與全球技術(shù)差距正在逐漸縮短，我們認(rèn)為未來3-5年將是半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)替代黃金戰(zhàn)略機(jī)遇期。、設(shè)備簡介:技術(shù)高、進(jìn)步快、種類多、價(jià)值大半導(dǎo)體行業(yè)技術(shù)高、進(jìn)步快，一代產(chǎn)品需要一代工藝，而一代工藝需要一代設(shè)備。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)進(jìn)步主要有兩大方向:一是制程越小→晶體管越小→相同面積上的元件數(shù)越多→性能越高→產(chǎn)品越好;二是硅片直徑越大→硅片面積越大→單個(gè)晶圓上芯片數(shù)量越多→效率越高→成本越低。半導(dǎo)體工藝流程主要包括單晶硅片制造、IC設(shè)計(jì)、IC制造和IC封測(cè)。單晶硅片制造需要單晶爐等設(shè)備，IC制造需要光刻機(jī)、刻蝕機(jī)、薄膜設(shè)備、擴(kuò)散\離子注入設(shè)備、濕法設(shè)備、過程檢測(cè)等六大類設(shè)備。半導(dǎo)體設(shè)備中，晶圓代工廠設(shè)備采購額約占80%，檢測(cè)設(shè)備約占8%，封裝設(shè)備約占7%，硅片廠設(shè)備等其他約占5%。一般情況下。半導(dǎo)體生產(chǎn)線制造設(shè)備進(jìn)口清關(guān)代理公司，進(jìn)口半導(dǎo)體設(shè)備報(bào)關(guān)代理。上海專業(yè)的半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口報(bào)關(guān)經(jīng)驗(yàn)豐富

進(jìn)口晶圓制造設(shè)備報(bào)關(guān)代理公司，二手半導(dǎo)體設(shè)備清關(guān)注意問題，進(jìn)口二手半導(dǎo)體設(shè)備門到門清關(guān)服務(wù)。上海專業(yè)的半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口報(bào)關(guān)經(jīng)驗(yàn)豐富

2016財(cái)年的訂單均占該公司銷售收入的10%以上。2014和2015財(cái)年，Lam在韓國半導(dǎo)體設(shè)備銷售額比較高，占整體銷售比例為24%和27%，在中國臺(tái)灣地區(qū)銷售額高達(dá)，同比增長，占比為25%。由于中國大陸半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，2016財(cái)年，中國大陸成為Lam半導(dǎo)體設(shè)備銷售的第二大市場(chǎng)。東京電子?xùn)|京電子是日本前列的半導(dǎo)體設(shè)備提供商，主要從事半導(dǎo)體設(shè)備和平板顯示器設(shè)備制造。英文簡寫為TEL，全稱為TokyoElectronLimited。1963年在日本東京成立，公司名為東京電子研究所。1968年東京電子與ThermcoProductsCorp合作開始生產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備。1978年公司正式改名為東京電子有限公司。1983年，東京電子與美國公司拉姆研究合作，引進(jìn)當(dāng)時(shí)前列的美國技術(shù)，在日本本土開始生產(chǎn)刻蝕機(jī)。公司在2018財(cái)年?duì)I業(yè)收入增長，凈利潤增長。公司十分注重研發(fā)投入，2018財(cái)年的計(jì)劃研發(fā)費(fèi)用約1200億日元（約合80億人民幣），設(shè)備投資510億日元（約合30億人民幣），東京電子業(yè)務(wù)分為兩大板塊：工業(yè)機(jī)械制造和電子計(jì)算機(jī)組件，其中工業(yè)機(jī)械設(shè)備制造又細(xì)分為半導(dǎo)體制造和平板顯示器以及光伏設(shè)備制造。根據(jù)公司年報(bào)，從2015財(cái)年開始，半導(dǎo)體制造已經(jīng)成為公司發(fā)展業(yè)務(wù)，占公司總營收90%以上。上海專業(yè)的半導(dǎo)體設(shè)備進(jìn)口報(bào)關(guān)經(jīng)驗(yàn)豐富

萬享進(jìn)貿(mào)通供應(yīng)鏈（上海）有限公司位于周祝公路1318號(hào)4幢1052室。公司業(yè)務(wù)涵蓋進(jìn)口報(bào)關(guān)公司，化妝品進(jìn)口報(bào)關(guān)，設(shè)備進(jìn)口報(bào)關(guān)，進(jìn)口食品報(bào)關(guān)等，價(jià)格合理，品質(zhì)有保證。公司從事商務(wù)服務(wù)多年，有著創(chuàng)新的設(shè)計(jì)、強(qiáng)大的技術(shù)，還有一批專業(yè)化的隊(duì)伍，確保為客戶提供良好的產(chǎn)品及服務(wù)。萬享進(jìn)口報(bào)關(guān)物流秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先、技術(shù)為實(shí)”的經(jīng)營理念，全力打造公司的重點(diǎn)競爭力。