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時間:2024-12-29 06:29:23 
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磨耗率%≤00.9-21-4SiO2含量%≥99-9590-95堆積密度(g/ml≥0.750.78-0.800.75-0.78外型規(guī)格(mm1-51-31-41-31-42-5RH=90%,≥3035-40.035-35RH=50%,≥2025-30.525-25RH=20%,≥515-155-15吸附量變壓吸附專用硅膠普通A型硅膠指標項目指標標準值測定值范圍技術(shù)指標

CMP技術(shù)對于半導(dǎo)體晶圓加工不可或缺,其加工質(zhì)量與其中各類關(guān)鍵材料的作用息息相關(guān),由下圖可知,在晶圓制造中,CMP拋光材料約占據(jù)總成本的7%,而在CMP材料細分占比當(dāng)中,,CMP用的拋光液中的化學(xué)試劑將使被拋光基底材料氧化,生成一層較軟的氧化膜層,然后再通過機械摩擦作用去除氧化膜層,這樣通過反復(fù)的氧化成膜-機械去除過程,從而達到了有效拋光的目的。

該工藝對水玻璃離子交換樹脂等材料以及操作工藝有一定的然而,用該法制硅溶膠的離子交換工藝為***的在上世紀40年代開發(fā),后由***杜邦公司等在,十年代完善,為成熟也是為廣泛使用的工藝。相對來說,硅粉一步水解法的工藝比較簡單,在國內(nèi)被廣泛使用。要求,而這些正是國產(chǎn)品的弱勢。

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